液体状の原料を用いる化学気相堆積法及び装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：丸島儀一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-337398
公開番号（公開出願番号）：特開平5-239652
出願日： 1992年12月17日
公開日（公表日）： 1993年09月17日
要約：

【要約】液体状の原料物質(例えば有機金属)を用いるCVD法において、気化した原料ガスの供給量を精密に制御すると共に、大量の原料ガス供給を可能にする発明である。その為に、原料物質を液体状態で計量し供給量を設定した後に、それをほぼ全部気化させる。具体的には、供給量の制御された原料を液滴化し、加熱し、減圧しながら反応室内に供給する。その為のCVD装置としては、液体噴射手段と圧力変更手段と加熱手段とを有する気化手段を設けて構成する。本発明によれば、選択堆積法や段差被覆性で評価すると優れた効果を発揮することがよくわかる。

請求項（抜粋）：

反応室と、該反応室内を排気する排気手段と、該反応室内に基体を保持する為の基体保持手段と、該反応室内に原料ガスを導入する導入手段と、を具備する化学気相堆積装置において、前記導入手段は液体状の原料物質の供給量を制御する制御手段と、前記制御手段により下流側に設けられ、液体状の前記原料物質を気化させ反応室内に導入する気化手段と、を有することを特徴とする化学気相堆積装置。

IPC (2件)：

C23C 16/44 , C23C 16/18

引用特許：

審査官引用 (9件)

特開昭60-130820
特開平1-246366
特開平3-126872

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