特許

J-GLOBAL ID：200903096615981403

水処理装置

発明者： 鏑木 毅 ,  浦上 逸男 ,  石田 宏司
出願人/特許権者： 千代田工販株式会社
代理人 (1件)： 吉岡 宏嗣 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-136687
公開番号（公開出願番号）：特開2001-314880
出願日： 2000年05月10日
公開日（公表日）： 2001年11月13日
要約：

【要約】【課題】 浄化処理能力を向上した水処理装置を提供する。【解決手段】 紫外線ランプ5と、内部に紫外線ランプ5が配設された槽3と、この槽3の底部に連通し、被処理水1が槽3に向けて通流する被処理水流路9と、この被処理水流路9を通流する被処理水1にオゾンを注入するオゾン注入手段5,7,13とを含み、被処理水流路9は、上下方向に延在して被処理水1が下降する下降流部49を有し、オゾン注入手段5,7,13は、被処理水流路9にオゾンを注入するためのオゾン注入管13を備え、このオゾン注入管13のオゾンが排出される側の端部63は、被処理水流路9の下降流部49の上部び開口した水処理装置とする。オゾンの吸収は、被処理水流路9の下降流部49と槽3内の両方で行われるため、オゾンの被処理水への溶存量を増すことができ、浄化処理能力を向上できる。

請求項（抜粋）：

紫外線ランプと、内部に前記紫外線ランプが配設された槽と、該槽の底部に連通し、被処理水が前記槽に向けて通流する被処理水流路と、該被処理水流路を通流する前記被処理水にオゾンを注入するオゾン注入手段とを含み、前記被処理水流路は、上下方向に延在して被処理水が下降する下降流部を有し、前記オゾン注入手段は、前記被処理水流路にオゾンを注入するためのオゾン注入管を備え、該オゾン注入管のオゾンが排出される側の端部は、前記被処理水流路の前記下降流部の上部に開口してなる水処理装置。

IPC (6件)：

C02F 1/78 ZAB ,  C02F 1/32 ,  C02F 1/50 510 ,  C02F 1/50 531 ,  C02F 1/50 540 ,  C02F 1/50 560

FI (6件)：

C02F 1/78 ZAB ,  C02F 1/32 ,  C02F 1/50 510 E ,  C02F 1/50 531 R ,  C02F 1/50 540 A ,  C02F 1/50 560 C

Fターム (10件)：

4D037AA11 ,  4D037AB02 ,  4D037AB03 ,  4D037BA18 ,  4D037CA12 ,  4D050AA12 ,  4D050AB06 ,  4D050AB11 ,  4D050BB02 ,  4D050BC09