特許
J-GLOBAL ID：200903096624982633
被膜作製方法
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-372446
公開番号（公開出願番号）：特開平11-302847
出願日： 1988年03月02日
公開日（公表日）： 1999年11月02日
要約：
【要約】【課題】 保護膜として用いて剥離等のない炭素被膜を提供する。【解決手段】 被形成面に活性な水素または不活性気体により、被形成面の酸化物、 炭化物または窒化物等の汚染物または異物を除去した後に炭素膜を形成させる。
請求項（抜粋）：
水素または不活性気体により被形成面を洗浄し、前記被形成面に炭素または炭素を主成分とする被膜を形成することを特徴とする被膜作製方法。
IPC (4件)：
C23C 16/26
, C01B 31/02 101
, G11B 5/187
, G11B 5/84
C23C 16/26 Z
, C01B 31/02 101 Z
, G11B 5/187 K
, G11B 5/84 B
