特許
J-GLOBAL ID：200903096626178785

連続溶解装置、連続溶解方法及び気体溶解水供給装置

発明者：
森田 博志

森田 博志 について

, 
井田 純一

井田 純一 について

, 
塚本 和巳

塚本 和巳 について


出願人/特許権者：
栗田工業株式会社

栗田工業株式会社 について


代理人 (1件)： 内山 充
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-142032
公開番号（公開出願番号）：特開2003-334433
出願日： 2002年05月16日
公開日（公表日）： 2003年11月25日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】主流体の流量が変動しても、安定して一定濃度の溶液を得ることができ、とりわけ精密な清浄表面を必要とする電子材料に用いる洗浄水や表面処理水を無駄なく供給することができる連続溶解装置及び連続溶解方法を提供する。【解決手段】主流体に他の流体を溶解させる溶解部1を有する連続溶解装置において、主流体の流量を計測して計測値の信号を出力する流量計2と、入力される該信号に基づいて他の流体の供給量を制御する流量制御機構3を有することを特徴とする連続溶解装置、及び、主流体に他の流体を連続的に溶解させる連続溶解方法において、主流体の流量に基づいて他の流体の供給量を制御することを特徴とする連続溶解方法。
請求項（抜粋）：
主流体に他の流体を溶解させる溶解部を有する連続溶解装置において、主流体の流量を計測して計測値の信号を出力する流量計と、入力される該信号に基づいて他の流体の供給量を制御する流量制御機構を有することを特徴とする連続溶解装置。
IPC (9件)：
B01F 1/00 ,  B01F 3/08 ,  B01F 15/04 ,  C02F 1/00 ,  C02F 1/68 510 ,  C02F 1/68 520 ,  C02F 1/68 ,  C02F 1/68 530 ,  H01L 21/304 648
FI (10件)：
B01F 1/00 A ,  B01F 3/08 Z ,  B01F 15/04 D ,  C02F 1/00 B ,  C02F 1/68 510 A ,  C02F 1/68 520 B ,  C02F 1/68 520 C ,  C02F 1/68 520 G ,  C02F 1/68 530 L ,  H01L 21/304 648 G
Fターム (14件)：
4G035AA01 ,  4G035AB37 ,  4G035AB54 ,  4G035AC01 ,  4G035AC26 ,  4G035AE02 ,  4G035AE13 ,  4G037AA01 ,  4G037AA18 ,  4G037BA01 ,  4G037BB00 ,  4G037BC02 ,  4G037BD04 ,  4G037EA01
引用特許：
審査官引用 (8件)
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