特許

J-GLOBAL ID：200903096635551090

チタン酸化物の成膜方法

発明者： 大崎 壽 ,  橘 ゆう子 ,  林 篤 ,  光井 彰
出願人/特許権者： 旭硝子株式会社
代理人 (1件)： 泉名 謙治 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-169168
公開番号（公開出願番号）：特開平11-012720
出願日： 1997年06月25日
公開日（公表日）： 1999年01月19日
要約：

【要約】【課題】大面積に均一に、高速に成膜が可能な酸化チタンの成膜方法の提供。【解決手段】TiO<SB>x</SB> ターゲット(1<x<2)を用い、スパッタ法によりチタン酸化物を成膜する方法において、スパッタガスとして、酸化性ガスを0.1〜10体積%の割合で含む希ガスを用い、スパッタ時の投入電力密度を5.5W/cm<SP>2</SP> 以上とするチタン酸化物の成膜方法。

請求項（抜粋）：

TiO<SB>x</SB> ターゲット(1<x<2)を用い、スパッタ法によりチタン酸化物を成膜する方法において、スパッタガスとして、希ガス中に酸化性ガスが0.1〜10体積%の割合で含まれたガスを用い、スパッタ時の投入電力密度を5.5W/cm<SP>2</SP> 以上とすることを特徴とするチタン酸化物の成膜方法。

IPC (2件)：

C23C 14/08 ,  C23C 14/34

FI (2件)：

C23C 14/08 E ,  C23C 14/34 N