特許
J-GLOBAL ID:200903096636006745
成膜方法及び化学気相蒸着装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
熊谷 隆 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-257258
公開番号(公開出願番号):特開2002-069654
出願日: 2000年08月28日
公開日(公表日): 2002年03月08日
要約:
【要約】【課題】 CVDによる金属堆積物を堆積工程実行中に中間熱処理するか、又は堆積工程終了後に後熱処理することによって堆積金属にリフロー現象を起こし、基材表面に対する追随性が良いコンフォーマルで平坦な膜状に改善できる成膜方法及び化学気相蒸着装置を提供すること。【解決手段】 化学気相蒸着法を用いて基材1表面に所望の材料からなる皮膜を形成するに際し、成膜工程実行中、又は成膜工程の途中で暫時該工程を中断して、それ以前に形成した該材料から成る堆積物2をハロゲンランプ13で加熱し熱処理するか、若しくは該工程終了後に該堆積物2をハロゲンランプ13で加熱し熱処理する。
請求項(抜粋):
化学気相蒸着法を用いて基材表面に所望の材料からなる皮膜を形成するに際し、成膜工程実行中、又は成膜工程の途中で暫時該工程を中断して、それ以前に形成した該材料から成る堆積物を熱処理するか、若しくは該工程終了後に該堆積物を熱処理することを特徴とする成膜方法。
IPC (3件):
C23C 16/56
, C23C 16/18
, H01L 21/285
FI (3件):
C23C 16/56
, C23C 16/18
, H01L 21/285 C
Fターム (12件):
4K030AA11
, 4K030BA01
, 4K030CA04
, 4K030CA12
, 4K030DA09
, 4K030JA10
, 4K030KA23
, 4K030KA26
, 4M104BB04
, 4M104DD43
, 4M104DD80
, 4M104HH12
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