イオンビーム露光装置及びイオンビーム露光方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：船橋國則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-181997
公開番号（公開出願番号）：特開平10-027740
出願日： 1996年07月11日
公開日（公表日）： 1998年01月27日
要約：

【要約】【課題】イオンビームを露光光に用いたイオンビーム露光は、集束させたイオンビームを用いた直接描画であるため、スループットが悪い。【解決手段】イオンビーム露光装置1は、放射状にイオンビーム11を発生するイオン源10と、イオンビーム11の照射範囲内においてウエハWを載置する載置面21を有し、イオン源10に対向する状態で載置面21を設けてなる試料台20と、イオンビーム11を通過させる孔パターンpが形成された露光マスクMをイオン源10とウエハWとの間に保持するためのマスク保持具30と、を具備している。これによって、試料台20上に載置されたウエハWの表面全域に対して、マスク保持具30に保持された露光マスクMの孔パターンpが一括でパターン露光される。

請求項（抜粋）：

イオンビームの照射によってウエハの表面にパターン露光を行うイオンビーム露光装置であって、放射状にイオンビームを発生するイオン源と、前記イオンビームの照射範囲内において前記ウエハを載置する載置面を有し、前記イオン源に対向する状態で当該載置面を設けてなる試料台と、前記イオンビームを通過させる孔パターンが形成された露光マスクを、前記イオン源と前記ウエハとの間に保持するためのマスク保持具と、を備えたことを特徴とするイオンビーム露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , H01J 37/305

FI (3件)：

H01L 21/30 551 , H01J 37/305 B , H01L 21/30 541 S

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開2049-185750
特開昭53-092669
特開2049-185750

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