特許
J-GLOBAL ID：200903096651893944
AlまたはAl合金製真空チャンバ部材の表面処理方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
植木 久一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-282314
公開番号（公開出願番号）：特開平8-144088
出願日： 1994年11月16日
公開日（公表日）： 1996年06月04日
要約：
【要約】【目的】 CVD装置,PVD装置,ドライエッチング装置などに用いられるAlまたはAl合金製真空チャンバ部材の表面処理方法であって、真空チャンバ内に導入される腐食性のガスやプラズマに対して優れた耐食性を発揮するAlまたはAl合金製真空チャンバ部材の表面処理方法を提供する。【構成】 AlまたはAl合金製真空チャンバ部材の表面に陽極酸化処理を行うにあたって、陽極酸化の初期電圧より陽極酸化の終期電圧を高くする。尚、上記終期電圧を初期電圧より高くするにあたっては、陽極酸化電圧を全工程の任意の区間で連続的または非連続的に変化させてもよく、或いは陽極酸化電圧を任意の区間で一定に保つ方法を採用してもよい。
請求項（抜粋）：
AlまたはAl合金製真空チャンバ部材の表面に陽極酸化処理を行うにあたって、陽極酸化の初期電圧より陽極酸化の終期電圧を高くすることを特徴とするAlまたはAl合金製真空チャンバ部材の表面処理方法。
IPC (4件)：
C25D 11/04 101
, C23C 14/00
, C23C 16/44
, C23F 4/00
