特許

J-GLOBAL ID：200903096652953371

基板保持装置ならびに該基板保持装置を用いた研磨方法および研磨装置

発明者： 高橋 一雄
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 阪本 善朗
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-193121
公開番号（公開出願番号）：特開平11-019868
出願日： 1997年07月03日
公開日（公表日）： 1999年01月26日
要約：

【要約】【課題】 研磨中に基板が外れるおそれがなく、しかも基板の着脱を容易に行なえるようにする。【解決手段】 基板保持装置E1 は、基板保持面側が解放された凹所1aを有する枠体1と、凹所1a内に同心状に設けられた第1ないし第3の流体室2〜4を備え、各流体室2〜4の少なくとも前記基板保持面側が変形自在な弾性体膜2a〜4aで構成され、前記弾性体膜2a〜4aの外面上には変形自在なバッキング材5が配設されている。各流体室2〜4内の内圧を個別に制御することで、各弾性体膜2a〜4aの突出変形量を変化させることができ、保持された基板Wを離脱させる際には、第1の流体室2内の内圧を増大させて前記弾性体膜2aを突出変形させることにより基板Wを突き出す。

請求項（抜粋）：

基板保持面側が解放された凹所を有する枠体と、前記凹所内に同心状に設けられた複数の流体室と、前記流体室の内圧を個別に増減することができる加圧流体給排手段を備え、前記流体室の少なくとも前記基板保持面側の壁面が変形自在な弾性体膜で構成されていることを特徴とする基板保持装置。

IPC (3件)：

B24B 37/04 ,  B24B 37/00 ,  H01L 21/304 321

FI (3件)：

B24B 37/04 E ,  B24B 37/00 B ,  H01L 21/304 321 E