特許

J-GLOBAL ID：200903096660491174

メダル洗浄装置

発明者： 森 一生
出願人/特許権者： 株式会社フェローテック精工
代理人 (1件)： 森 治 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-113628
公開番号（公開出願番号）：特開2002-307026
出願日： 2001年04月12日
公開日（公表日）： 2002年10月22日
要約：

【要約】【課題】 メダル全面に洗浄液を塗布し、洗浄を確実に行うと共に、メダルの重なって移行するのを効率よく矯正すること。【解決手段】 供給されるメダルを受け取り、これを洗浄しつゝ移送する洗浄手段2と、洗浄されたメダルに付着する洗浄液を除去する付着液除去手段3とを備え、上記洗浄手段2は多数のローラ15を並列して配置し、各ローラ15を回転し、供給されるメダルを順次移送することを特徴とする。

請求項（抜粋）：

供給されるメダルを受け取り、これを洗浄しつゝ移送する洗浄手段と、洗浄されたメダルに付着する洗浄液を除去する付着液除去手段とを備え、上記洗浄手段は多数のローラを並列して配置し、各ローラを回転し、供給されるメダルを順次移送することを特徴とするメダル洗浄装置。

IPC (4件)：

B08B 3/02 ,  A63F 7/02 351 ,  B08B 3/10 ,  G07D 9/00

FI (4件)：

B08B 3/02 C ,  A63F 7/02 351 Z ,  B08B 3/10 Z ,  G07D 9/00 C

Fターム (15件)：

2C088BC74 ,  3B201AA03 ,  3B201AB14 ,  3B201BA02 ,  3B201BB21 ,  3B201BB82 ,  3B201BB92 ,  3B201CC14 ,  3E001AA01 ,  3E001AB01 ,  3E001BA03 ,  3E001CA10 ,  3E001DA20 ,  3E001FA10 ,  3E001FA23