立体高分子材料の表面処理方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴江武彦 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-334520
公開番号（公開出願番号）：特開2002-088179
出願日： 2000年11月01日
公開日（公表日）： 2002年03月27日
要約：

【要約】【課題】伝導性をもった金属グリッドを試料台上に設置して立体高分子試料の表面にプラズマイオン注入が行われるようにすることで、高分子表面改質を成し、これにより高分子表面の電気伝導度を向上させる方法及びその装置を提供すること。【解決手段】本発明は(a)真空槽内の試料台上に立体高分子材料を位置させる工程と、(b)真空槽内の前記材料表面から一定距離離れた箇所にグリッドを位置させる工程と、(c)真空槽内の前記材料表面に抵抗度を低める黒鉛層を形成するために気体プラズマイオンを形成する工程と、(d)前記グリッドに陰電圧パルスを加えて気体プラズマイオンを前記材料の表面に注入させる工程とを含むグリッドを用いた立体高分子のプラズマイオン注入による立体高分子材料の表面処理方法である。

請求項（抜粋）：

(a)真空槽内の試料台上に立体高分子材料を位置させる工程と、(b)真空槽内の前記材料表面から一定距離離れた箇所にグリッドを位置させる工程と、(c)真空槽内の前記材料表面に抵抗度を低める黒鉛層を形成するために気体プラズマイオンを形成する工程と、(d)前記グリッドに陰電圧パルスを加えて気体プラズマイオンを前記材料の表面に注入させる工程とを含むグリッドを用いた立体高分子のプラズマイオン注入による立体高分子材料の表面処理方法。

IPC (6件)：

C08J 7/00 306 , B29C 59/14 , C23C 14/48 , G21K 5/04 , H01J 37/32 , H05H 1/24

FI (6件)：

C08J 7/00 306 , B29C 59/14 , C23C 14/48 A , G21K 5/04 A , H01J 37/32 , H05H 1/24

Fターム (28件)：

4F073AA04 , 4F073BA19 , 4F073BA26 , 4F073BA31 , 4F073BB01 , 4F073CA01 , 4F073CA04 , 4F073CA62 , 4F073CA63 , 4F073CA64 , 4F073CA65 , 4F073CA67 , 4F073CA68 , 4F073CA70 , 4F209AA13 , 4F209AA28 , 4F209AA40 , 4F209AC03 , 4F209AE03 , 4F209AG01 , 4F209PA14 , 4F209PB01 , 4F209PC20 , 4K029AA11 , 4K029BA34 , 4K029BC03 , 4K029CA10 , 4K029DE00

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