特許

J-GLOBAL ID：200903096681131186

プラスチック基板上への蒸着膜の形成方法

発明者： 岩本 誠 ,  福地 俊生 ,  御園 健司 ,  磯畑 恭平 ,  長野 泰之 ,  西田 賢治
出願人/特許権者： シャープ株式会社
代理人 (1件)： 川口 義雄 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-294326
公開番号（公開出願番号）：特開平6-145964
出願日： 1992年11月02日
公開日（公表日）： 1994年05月27日
要約：

【要約】【目的】 蒸着膜の仕上り時に発生する基板の凹凸変形を抑えて、プラスチック基板への金属及び/又は金属化合物の蒸着方法の提供。【構成】 蒸着膜の仕上り時に発生する基板の凹凸を打ち消す応力に相当する曲率半径にて予めプラスチック基板を変形させた状態で、該プラスチック基板上へ金属及び/又は金属化合物、特に、SiO2 及び/又はITOの蒸着膜を形成する。

請求項（抜粋）：

蒸着膜の仕上り時に発生する基板の凹凸を打ち消す応力に相当する曲率半径にて予めプラスチック基板を変形させた状態で、該基板に金属及び/又は金属化合物の蒸着を行なうことを特徴とするプラスチック基板上への蒸着膜の形成方法。

IPC (3件)：

C23C 14/24 ,  C08J 7/04 ,  C23C 14/20