特許

J-GLOBAL ID：200903096682865680

虹彩転写材

発明者： 中山 幸次郎 ,  中山 太一郎 ,  堀江 健太郎
出願人/特許権者： 株式会社ニッカテクノ ,  中山工業株式会社
代理人 (1件)： 牧野 逸郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-136619
公開番号（公開出願番号）：特開平9-011699
出願日： 1991年01月04日
公開日（公表日）： 1997年01月14日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】新規な金属又は金属化合物の蒸着薄膜の組合せによる蒸着薄膜構造体。【解決手段】高光輝性虹彩転写材は、基材上に離型剤層を有し、その上に透明乃至半透明の保護層又は着色層を有し、その上にクロム、チタン、亜鉛、酸化第二銅、酸化クロム及び酸化亜鉛から選ばれる反射率15〜35%の低反射性の金属又は金属化合物蒸着薄膜、一酸化ケイ素、二酸化ケイ素、酸化インジウム、酸化インジウムスズ、酸化チタン、フツ化マグネシウム及びフツ化カルシウムから選ばれる屈折率0.5〜2.5の低屈折率の金属酸化物又は金属フツ化物蒸着薄膜及びアルミニウム、スズ、ニツケル、銀及びそれらの合金から選ばれる反射率75〜98%の高反射性の金属蒸着薄膜をこの順序にて積層してなる蒸着薄膜構造体を有し、更に、その上に透明乃至半透明の保護層又は着色層と感熱性接着剤層とをこの順序にて有する。

請求項（抜粋）：

基材上に離型剤層を有し、その上に透明乃至半透明の保護層又は着色層を有し、その上にクロム、チタン、亜鉛、酸化第二銅、酸化クロム及び酸化亜鉛から選ばれる反射率15〜35%の低反射性の金属又は金属化合物蒸着薄膜、一酸化ケイ素、二酸化ケイ素、酸化インジウム、酸化インジウムスズ、酸化チタン、フツ化マグネシウム及びフツ化カルシウムから選ばれる屈折率0.5〜2.5の低屈折率の金属酸化物又は金属フツ化物蒸着薄膜及びアルミニウム、スズ、ニツケル、銀及びそれらの合金から選ばれる反射率75〜98%の高反射性の金属蒸着薄膜をこの順序にて積層してなる蒸着薄膜構造体を有し、更に、その上に透明乃至半透明の保護層又は着色層と感熱性接着剤層とをこの順序にて有することを特徴とする虹彩転写材。

IPC (8件)：

B44C 1/17 ,  B32B 7/02 103 ,  B32B 7/06 ,  B32B 7/12 ,  B32B 9/00 ,  B32B 15/08 ,  C23C 14/06 ,  B32B 33/00

FI (8件)：

B44C 1/17 H ,  B32B 7/02 103 ,  B32B 7/06 ,  B32B 7/12 ,  B32B 9/00 A ,  B32B 15/08 H ,  C23C 14/06 ,  B32B 33/00

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 特開昭61-016900
  
• 特開平1-120400
  
• 特開昭56-144994
  
• 特開昭61-069499
  
• 特開平1-130999