特許
J-GLOBAL ID:200903096689301447

積層構造物の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 足立 勉 ,  武藤 勝典
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-318472
公開番号(公開出願番号):特開2004-149887
出願日: 2002年10月31日
公開日(公表日): 2004年05月27日
要約:
【課題】AD法の有する特徴に着目し、カンチレバーデバイスのような複雑な工程を経て作業している積層構造物を少ない工程数で製造可能な積層構造物の製造方法を提供する。【解決手段】基礎部3のうち弾性変形部31は、アクチュエータ5を象って形成され、しかも、その側面は噴射ノズル74から噴射される機能性微粒子の噴射方向に沿って切り込まれている。そのため、弾性変形部31上には、回りこみのないアクチュエータ5が形成される。また、固定部30上ではパターニングされたアクチュエータ5をステンシルマスク9を乗せて機能性微粒子を吹き付けるだけで形成している。したがって、従来上部電極層52上に酸化膜でマスクして、一度積層した電極層52等をエッチングする従来の方法に比べ、簡単かつ少ない工程数でカンチレバーデバイス1を作製することができる。【選択図】 図4
請求項(抜粋):
機能性微粒子を基礎部の表面に衝突させて堆積することによって、前記基礎部の表面に機能性膜を成膜することを特徴とする積層構造物の製造方法において、 機能性膜パターンエッジ形状の少なくとも一部は基礎部形状と一致し、基礎部当該箇所の形状加工後に機能性微粒子の堆積を行うことを特徴とする積層構造物の製造方法。
IPC (1件):
C23C24/04
FI (1件):
C23C24/04
Fターム (6件):
4K044AA01 ,  4K044AA11 ,  4K044BA11 ,  4K044BB02 ,  4K044BC14 ,  4K044CA23
引用特許:
審査官引用 (4件)
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