特許

J-GLOBAL ID：200903096689497490

三次元固定砥粒物品のインサイチュ活性化

発明者： ガグリアルディ,ジョン ジェイ. ,  ルーブ,クリストファー ジェイ.
出願人/特許権者： スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー
代理人 (5件)： 青木 篤 ,  石田 敬 ,  古賀 哲次 ,  永坂 友康 ,  西山 雅也
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-522555
公開番号（公開出願番号）：特表2007-501716
出願日： 2004年06月24日
公開日（公表日）： 2007年02月01日
要約：

基板(456)と支持アセンブリ(400)の間に介在された固定砥粒物品(410)を含む装置。支持アセンブリ(400)は、基板と固定砥粒物品(410)の間の界面に高低侵食力の領域を形成する。高侵食力は、固定砥粒物品(410)を活性化するのに十分なものである。

請求項（抜粋）：

a)砥粒表面および対向する表面を含む三次元固定砥粒物品と、 b)前記固定砥粒物品の前記砥粒表面に隣接する第1の表面を含む基板と、 c)前記固定砥粒物品の前記対向する表面が隣接する支持アセンブリと、 を含み、 垂直力が前記基板、前記固定砥粒物品、および前記基板の前記第1の表面と前記固定砥粒物品の前記砥粒表面との間に接触圧力を形成する前記支持アセンブリに適用されると、前記固定砥粒物品の前記砥粒表面で高侵食力の領域と、前記固定砥粒物品の前記砥粒表面で低侵食力の領域とを形成するように前記支持アセンブリは選択され、相対運動が前記基板の前記第1の表面と前記固定砥粒物品の前記砥粒表面との間に生じ、 少なくとも高侵食力は前記固定砥粒物品を活性化するのに十分なものであり、前記低侵食力は前記高侵食力より小さい、三次元固定砥粒物品のインサイチュ活性化のための装置。

IPC (2件)：

B24D 11/00 ,  H01L 21/304

FI (4件)：

B24D11/00 B ,  H01L21/304 622M ,  H01L21/304 621C ,  H01L21/304 622C

Fターム (13件)：

3C063AB07 ,  3C063BA37 ,  3C063BA40 ,  3C063BB07 ,  3C063BB30 ,  3C063BC03 ,  3C063BD01 ,  3C063BE03 ,  3C063BG22 ,  3C063BG23 ,  3C063BH02 ,  3C063EE10 ,  3C063FF30

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特公昭43-017238