特許

J-GLOBAL ID：200903096690817139

フッ素含有シリコンネットワークポリマとその絶縁膜およびその製法

発明者： 三輪 崇夫 ,  渡辺 明 ,  伊藤 攻 ,  松田 實
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 高橋 明夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-181416
公開番号（公開出願番号）：特開平9-031201
出願日： 1995年07月18日
公開日（公表日）： 1997年02月04日
要約：

【要約】【目的】新規なフッ素含有シリコンネットワークポリマの絶縁膜の提供。【構成】式〔1〕のテトラハロゲン化シランと式〔2〕の有機ハロゲン化物【化9】SiX4 ...〔1〕RZ ...〔2〕(但し、Rは少なくとも1個のフッ素を含むアルキル基または芳香族基、Xは臭素,ヨウ素,塩素を、Zは臭素,ヨウ素,塩素を示し、互いに異なっていてもよい。)との反応物で構成されていることを特徴とするフッ素含有シリコンネットワークポリマの絶縁膜。

請求項（抜粋）：

一般式【化1】(但し、Rは少なくとも1個のフッ素を含むアルキル基または芳香族基、nは整数)で示され、1,000〜100,000の分子量を有することを特徴とするフッ素含有シリコンネットワークポリマ。

IPC (5件)：

C08G 77/60 NUM ,  C09D183/16 PMM ,  H01L 21/312 ,  H01L 21/316 ,  H01L 21/768

FI (6件)：

C08G 77/60 NUM ,  C09D183/16 PMM ,  H01L 21/312 C ,  H01L 21/316 G ,  H01L 21/90 S ,  H01L 21/90 P