EUV光源光学要素

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：熊倉禎男 , 大塚文昭 , 西島孝喜 , 須田洋之
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-502841
公開番号（公開出願番号）：特表2007-528608
出願日： 2005年02月24日
公開日（公表日）： 2007年10月11日
要約：

【課題】EUV光発生器を提供する。【解決手段】特にプラズマ原料物質がMLM材料の1つ又はそれよりも多くと反応性であるプラズマ発生EUV光源チャンバにおいて使用するための様々な2元層材料を用いるMLMスタックと単一及び2元キャップ層を含むキャップ層とを含むプラズマ発生EUV光源光学要素、例えば反射器を形成するための機器及び方法。【選択図】図6

請求項（抜粋）：

多層スタック、を含み、前記多層スタックは、第2の材料でドープされた第1の材料を含む該多層スタック内の少なくとも1つの2元層を含む、ことを特徴とするプラズマ発生EUV光源反射要素。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , H05G 2/00

FI (2件)：

H01L21/30 531S , H05G1/00 K

Fターム (11件)：

4C092AA04 , 4C092AB19 , 4C092AC09 , 5F046AA22 , 5F046CB02 , 5F046DA01 , 5F046DA27 , 5F046GA09 , 5F046GA14 , 5F046GB01 , 5F046GC03

引用特許：

出願人引用 (10件)

米国特許出願出願番号第10/979,945号
米国特許第6,780,496号
米国特許出願出願番号第10/900,839号

全件表示

前のページに戻る