特許

J-GLOBAL ID：200903096697591667

テストマーク、並びにそれを用いたフォーカス及び収差の測定方法

発明者： 野村 博 ,  許斐 堅嗣
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-241480
公開番号（公開出願番号）：特開2002-055435
出願日： 2000年08月09日
公開日（公表日）： 2002年02月20日
要約：

【要約】【課題】実際に半導体装置の製造に用いられるパターン密度に近い周期パターンの測定を可能にし、且つ符号付きのデフォーカス量を簡単に精度良く測定するために有効なフォーカス測定用の露光マスクを提供すること。【解決手段】フォーカス測定用の露光マスクとして、+1次光と-1次光とで回折効率の異なる非対称回折格子パターン10と、非対称回折格子パターン10の像のずれを測定する際の基準となる像を得るための基準パターン20とで構成されたテストマーク7を含むものを用いる。

請求項（抜粋）：

投影光学系を介してホトマスク上に形成されたマスクパターンの像を基板上に投影する投影露光装置に使用する露光マスクであって、プラス1次回折光とマイナス1次回折光の回折効率が異なる少なくとも1つの回折格子パターンと、この非対称回折格子パターンの像のずれを測定する際の基準となる像を得るための基準パターンとを具備してなることを特徴とする露光マスク。

IPC (5件)：

G03F 1/08 ,  G01B 11/00 ,  G01M 11/02 ,  G03F 7/207 ,  H01L 21/027

FI (7件)：

G03F 1/08 P ,  G01B 11/00 G ,  G01B 11/00 B ,  G01M 11/02 B ,  G03F 7/207 H ,  H01L 21/30 502 P ,  H01L 21/30 514 E

Fターム (28件)：

2F065AA06 ,  2F065AA11 ,  2F065BB02 ,  2F065CC20 ,  2F065DD03 ,  2F065DD06 ,  2F065EE08 ,  2F065FF01 ,  2F065FF48 ,  2F065FF52 ,  2F065FF61 ,  2F065HH13 ,  2F065LL35 ,  2F065NN05 ,  2F065PP12 ,  2F065RR02 ,  2F065UU07 ,  2G086HH06 ,  2G086HH07 ,  2H095BB02 ,  2H095BE05 ,  2H095BE08 ,  2H095BE09 ,  5F046AA18 ,  5F046AA25 ,  5F046CB17 ,  5F046DA14 ,  5F046DB05