特許

J-GLOBAL ID：200903096714897171

反射型電気光学装置、電子機器、および反射型電気光学装置の製造方法

発明者： 菊地 哲慈
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (1件)： 上柳 雅誉 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-392896
公開番号（公開出願番号）：特開2003-195285
出願日： 2001年12月25日
公開日（公表日）： 2003年07月09日
要約：

【要約】【課題】 感光性樹脂に対する露光、現像を1回、行うだけで光反射膜の表面になだらかな表面形状を備えた光散乱用の凹凸パターンを付与することにより、生産効率を向上することのできる反射型電気光学装置、それを備えた電子機器、および反射型電気光学装置の製造方法を提供すること。【解決手段】 反射型電気光学装置100のTFTアレイ基板10において、光反射膜8aの下層側には、凹凸パターン8gを形成する凹凸形成層13aが形成されている。凹凸形成層13aは、感光性樹脂に対する露光マスクを介してのハーフ露光、現像、および加熱を行うことにより形成したものであり、なだらかな膜厚変化に対応する凹凸を表面に備えている。このため、光反射膜8aの表面には、凹凸形成層13aの凹凸形状に対応した光散乱用の凹凸パターン8gを付与することができる。

請求項（抜粋）：

電気光学物質を保持する基板上に、少なくとも、光反射膜が積層された反射型電気光学装置において、前記光反射膜の下層側には、なだらかな膜厚変化に対応する凹凸を表面に備えた感光性樹脂からなる凹凸形成層が形成され、前記光反射膜の表面には、前記凹凸形成層の凹凸に対応する光散乱用の凹凸パターンが付与されていることを特徴とする反射型電気光学装置。

IPC (4件)：

G02F 1/1335 520 ,  G09F 9/00 342 ,  G09F 9/30 338 ,  G09F 9/35

FI (4件)：

G02F 1/1335 520 ,  G09F 9/00 342 Z ,  G09F 9/30 338 ,  G09F 9/35

Fターム (40件)：

2H091FA02Y ,  2H091FA08X ,  2H091FA08Z ,  2H091FA14Z ,  2H091FA16Z ,  2H091FA35Y ,  2H091FA41Z ,  2H091FB04 ,  2H091FC22 ,  2H091FC27 ,  2H091FD06 ,  2H091GA01 ,  2H091GA02 ,  2H091GA06 ,  2H091GA13 ,  2H091HA07 ,  2H091HA10 ,  2H091LA12 ,  5C094AA42 ,  5C094AA43 ,  5C094AA44 ,  5C094BA03 ,  5C094BA43 ,  5C094CA19 ,  5C094EA04 ,  5C094EA05 ,  5C094EA06 ,  5C094EA07 ,  5C094ED11 ,  5C094FA04 ,  5C094HA08 ,  5G435AA17 ,  5G435BB12 ,  5G435BB16 ,  5G435CC09 ,  5G435FF03 ,  5G435KK05 ,  5G435KK09 ,  5G435LL07 ,  5G435LL08