特許

J-GLOBAL ID：200903096733614156

表面平滑性に優れる多孔質シリカフィルムの製造方法

発明者： 高 村 一 夫 ,  大 池 俊 輔 ,  窪 田 武 司 ,  蔵 野 義 人 ,  村 上 雅 美
出願人/特許権者： 三井化学株式会社
代理人 (1件)： 鈴木 俊一郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-077106
公開番号（公開出願番号）：特開2003-277042
出願日： 2002年03月19日
公開日（公表日）： 2003年10月02日
要約：

【要約】【課題】 フィルム表面が平滑性に優れた多孔質シリカフィルムの製造方法を提供すること。【解決手段】 加水分解縮合したアルコキシシラン類と界面活性剤とを含む塗布液を、基板に塗布した後、焼成あるいは抽出により界面活性剤を除去して多孔質シリカフィルムを調製する際に、この塗布液にポリジメチルシロキサンを主成分とする有機ケイ素化合物を添加することを特徴とする表面の平滑性が優れた多孔質シリカフィルムの製造方法。

請求項（抜粋）：

加水分解縮合したアルコキシシラン類と界面活性剤とを含む塗布液を、基板に塗布した後、焼成あるいは抽出により界面活性剤を除去して多孔質シリカフィルムを調製する際に、この塗布液にポリジメチルシロキサンを主成分とする有機ケイ素化合物を添加することを特徴とする表面平滑性に優れる多孔質シリカフィルムの製造方法。

IPC (2件)：

C01B 33/12 ,  C09D183/04

FI (2件)：

C01B 33/12 C ,  C09D183/04

Fターム (35件)：

4G072AA25 ,  4G072BB09 ,  4G072BB15 ,  4G072FF06 ,  4G072GG03 ,  4G072HH29 ,  4G072HH30 ,  4G072KK13 ,  4G072KK17 ,  4G072LL15 ,  4G072MM04 ,  4G072MM36 ,  4G072NN21 ,  4G072QQ06 ,  4G072RR05 ,  4G072UU30 ,  4J038AA011 ,  4J038AA012 ,  4J038DF022 ,  4J038DL021 ,  4J038DL022 ,  4J038DL031 ,  4J038DL032 ,  4J038DL071 ,  4J038DL072 ,  4J038DL151 ,  4J038DL152 ,  4J038HA441 ,  4J038HA442 ,  4J038JB11 ,  4J038KA09 ,  4J038MA02 ,  4J038MA04 ,  4J038MA09 ,  4J038PB09