特許

J-GLOBAL ID：200903096738978946

プラズマディスプレー用近赤外線吸収フィルター

発明者： 大井 龍 ,  松▲崎▼ ▲頼▼明 ,  清野 和浩 ,  藤田 繁雄 ,  熊谷 洋二郎
出願人/特許権者： 三井化学株式会社 ,  山本化成株式会社
代理人 (1件)： 若林 忠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-341380
公開番号（公開出願番号）：特開平10-186127
出願日： 1996年12月20日
公開日（公表日）： 1998年07月14日
要約：

【要約】【課題】 プラズマディスプレーから放射される近赤外線光を効率よくカットでき、周辺機器の誤動作が防止できるプラズマディスプレー用フィルターを提供する。【解決手段】 基材中に一般式(I)で表されるポリメチン系化合物を少なくとも一種含有してなるプラズマディスプレー用近赤外線吸収フィルター。【化1】

請求項（抜粋）：

基材に一般式(I)で表されるポリメチン系化合物を少なくとも1種含有してなるプラズマディスプレー用近赤外線吸収フィルター。【化1】〔式(I)中、R1、R7はアルキル基、アルコキシアルキル基、アラルキル基を示し、R2、R8はアルキル基、シクロアルキル基、アリール基を示す。R3、R4、R9、R10は水素原子、アルキル基、アルコキシアルキル基、ヒドロキシアルキル基、シクロアルキル基、アリール基を示し、これらがアルキル基である場合、R3とR4及び/又はR9とR10が連結して、結合する窒素原子とともに複素環を形成してもよい。R5、R6、R11、R12は水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子を示し、Zは酸性残基を示す。〕

IPC (7件)：

G02B 5/22 ,  C09B 23/00 ,  G02B 1/11 ,  G02B 1/10 ,  G09F 9/00 330 ,  H01J 9/20 ,  H01J 17/16

FI (7件)：

G02B 5/22 ,  C09B 23/00 L ,  G09F 9/00 330 C ,  H01J 9/20 A ,  H01J 17/16 ,  G02B 1/10 A ,  G02B 1/10 Z