特許
J-GLOBAL ID：200903096740974257
透明導電性パターンの形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
萩野 平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-064495
公開番号（公開出願番号）：特開平8-262465
出願日： 1995年03月23日
公開日（公表日）： 1996年10月11日
要約：
【要約】【目的】 エッチング技術や金属マスクを用いず、印刷によりマスクを形成し、マスクを除去するのに水を用いて、高精度で、異物付着が少なく、寸法精度が良く、歩留まりが高く、かつ大型化が容易な透明導電性パターンの製造方法を提供する。【構成】 基板上の透明導電膜を必要とする以外の部分に親水性インキを凸版印刷し、乾燥後、透明導電膜を形成し、水または水を主成分とする液にて印刷されたインキ及び不要な透明導電膜を除去して透明導電性パターンを製造する。
請求項（抜粋）：
カラーフィルタを有しまたは有さない基板上の透明導電膜を必要とする以外の部分に、水で除去しうるインキをインキが印刷される部分以外には印刷版が被印刷体に接触しない印刷法を用いて印刷し、乾燥した後、透明導電膜を成膜し、水または水を主成分とする液により印刷されたインキ及び必要としない透明導電膜を除去することを特徴とする、透明導電性パターンの形成方法。
IPC (2件)：
G02F 1/1343
, C03C 17/245
G02F 1/1343
, C03C 17/245 A
