特許
J-GLOBAL ID：200903096750397231
化学気相堆積装置及び化学気相堆積方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
中野 雅房
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-092539
公開番号（公開出願番号）：特開平6-283451
出願日： 1993年03月25日
公開日（公表日）： 1994年10月07日
要約：
【要約】【目的】 ソース原料の蒸気を安定に供給することができる化学気相堆積装置及び化学気相堆積方法を提供する。【構成】 ソース原料蒸発室10内に加熱装置11を設ける。液体マスフローコントローラ5によってソース原料S1,S2を加熱装置11上に滴下し、ソース原料S1,S2を蒸発させる。気体用マスフローコントローラ8によってキャリアガスCGをソース原料蒸発室10内に供給し、キャリアガスCGにのせてソース原料S1,S2の蒸気を反応室2に運ぶ。
請求項（抜粋）：
ソース原料の蒸気を反応室に導き、化学反応を生じさせることによって対象物の表面に薄膜を成長させる化学気相堆積装置において、液体又は溶液状態のソース原料を一定の供給量で供給する液体原料供給装置と、当該ソース原料を蒸発させるための加熱装置とを備え、当該液体原料供給装置から加熱装置にソース原料を滴下することによってソース原料の蒸気を形成することを特徴とする化学気相堆積装置。
IPC (2件)：
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