特許
J-GLOBAL ID：200903096763842730
プラズマによる液体処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
渡邉 勇 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-312677
公開番号（公開出願番号）：特開2000-107754
出願日： 1998年09月29日
公開日（公表日）： 2000年04月18日
要約：
【要約】【課題】 放電プラズマによる液処理で、中空円筒状の自由落下水流に高周波のパルス状電圧を印加する方法は液流と電極との間隙が不安定であり、導電性のある被処理液に対しては局所的な短絡でコロナ放電から火花放電に移行し易いので、安定した放電プラズマを維持する為には放電電極と液流との間隙を一定に維持する必要がある。【解決手段】 垂直管と該垂直管の中心に設けた同心円筒との間に高周波のパルス状電圧を印加して放電により発生するプラズマを、「垂直管の内壁を伝わって流下する液膜」に作用させる。また、垂直管の内壁に細かい凹凸を設けて液膜表面積を増やすと共に液膜に渦流を生じさせて液表面を絶えず入れ代えることにより、プラズマで発生する紫外線・オゾン・遊離基などの強力な酸化因子と液との接触面積が実質的に増加し、プラズマの作用効果が上がる。
請求項（抜粋）：
垂直管の内壁を伝わって流下せしめた液膜に電磁波を照射する方式において、垂直管と該垂直管の中心に設けた同心円筒との間に高周波のパルス状電圧を印加して放電により発生するプラズマを、垂直管の内壁を伝わって流下する液膜に作用させることを特徴とする、プラズマによる液体処理装置。
IPC (3件)：
C02F 1/30
, A23L 3/26
, A61L 2/14
C02F 1/30
, A23L 3/26
, A61L 2/14
4B021LA42
, 4B021LP10
, 4B021LT03
, 4B021LW06
, 4C058AA20
, 4C058AA21
, 4C058BB06
, 4C058EE30
, 4C058KK06
, 4C058KK46
, 4D037AA02
, 4D037AB03
, 4D037BA16
, 4D037BA18
, 4D037BB01
, 4D037CA04
