特許
J-GLOBAL ID:200903096775480966
薄材メッシュ、その製造方法及びその製造装置
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
中野 雅房
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-309726
公開番号(公開出願番号):特開平7-001172
出願日: 1993年11月15日
公開日(公表日): 1995年01月06日
要約:
【要約】【目的】 メッシュ材の種類を限定されず、特に耐食性や耐薬品性、人体への安全性などに優れたメッシュ材を用いることができ、メッシュ孔の孔形状や断面形状も任意なメッシュとその製造技術を提供する。【構成】 エキシマレーザ発振器12から出射したエキシマレーザ光Lをマスク1の複数個の開口パターン2に透過させることによってビーム整形した後、対物レンズ3等の光学系を通過させ、加工ステージ4の上に固定された例えばポリサルフォンやポリエステル等の高分子からなる薄材5にエキシマレーザ光Lを照射して開口パターン2の像を結像させ、薄材5に複数個のメッシュ孔6を加工し、例えば吸入器などに使用される薄材メッシュ7を製作する。
請求項(抜粋):
紫外線ビームの照射によって薄材に複数個の高アスペクト比の微細な貫通孔を形成したことを特徴とする薄材メッシュ。
IPC (4件):
B23K 26/00 330
, B23K 26/02
, B23K 26/06
, B23K 26/08
引用特許:
前のページに戻る