特許
J-GLOBAL ID：200903096776589333
活性炭製造・再生装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
荒垣 恒輝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-055654
公開番号（公開出願番号）：特開平11-217208
出願日： 1998年01月30日
公開日（公表日）： 1999年08月10日
要約：
【要約】【課題】 装置をできるだけ小型化し、コスト高を招くこともなく、環境上の問題も生じることのない活性炭製造・再生装置を提供する。【解決手段】 ロータリーキルン1内を反応室27とし、反応室27内を横断させて加熱管15を設けている。循環ガス加熱装置8で加熱した高温ガスを加熱管15内に流して加熱管15を加熱し、加熱管15からの放射熱によって反応室27内を賦活温度に保つ。水蒸気導入管20から噴霧された水蒸気は反応室27内で賦活ガスとなり、最後は賦活ガス排気管17から排気される。炭材25は炭材ホッパー22から反応室27内へ送り込まれる。反応室27は賦活温度に達してしかも賦活ガス雰囲気にあり、回転を続けている。炭材25はかき上げ羽根6によるかき上げ撹拌を受けつつ、AからB方向へ移送されながら賦活されていく。最後は活性炭排出口18に至って排出される。
請求項（抜粋）：
反応室(27)を設け、非酸化物セラミックからなる筒状の加熱管(15)を反応室(27)内に横断させて設け、加熱管(15)内に高温ガスを流して加熱管(15)を加熱し、加熱管(15)からの放射熱によって反応室(27)内を賦活温度に保つようにした活性炭製造・再生装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
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