特許

J-GLOBAL ID：200903096779580698

極端紫外線発生装置および該装置の極端紫外線を用いたリソグラフィー用光源への応用

発明者： シェイモル,ガイ ,  コルモン,フィリップ ,  セロ,ピエール-イヴ ,  サブルモンティエ,オリヴィエ ,  シュミット,マルタン ,  バルト,ブノワ
出願人/特許権者： コミサリア、ア、レネルジ、アトミク ,  アルカテル ヴァキューム テクノロジー フランス
代理人 (1件)： 酒井 宏明
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-515990
公開番号（公開出願番号）：特表2008-503078
出願日： 2005年06月14日
公開日（公表日）： 2008年01月31日
要約：

【課題】極端紫外線の集光を効果的に行うことができ、製造および運転コストを低減し得る装置を提供する。【解決手段】本発明の極端紫外線発生装置は、多数のレーザ出力源、集光手段(11,110)、真空空間形成手段、ターゲット(4)生成装置(2)、第1の集光装置(10,110)とを有し、前記集光手段が、前記ターゲットの前記レーザビーム(1)が位置する半分側の空間に位置するとともに、前記集光手段の平均集光軸(6)に対して約60°から90°の角度(β)で傾斜して、配置され;前記第1の集光装置が、前記ターゲット(4)のレーザビーム(1)が位置する半分側の空間に前記平均集光軸(6)周りに対称に配置され、前記平均集光軸(6)を中心とするとともに前記ターゲット(4)に位置する頂点を有する円錐状空間内に位置し、前記頂点の半角(α)が前記平均集光軸(6)に対する前記集光レーザビーム(1)の傾斜角(β)より小さい、ことを特徴とする。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

a)多数のレーザビーム(12)を放射するための多数のレーザ出力源; b)前記レーザビーム(12)を集光して集光レーザビーム(1)を発生させる集光手段(11,110); c)少なくとも前記集光レーザビーム(1)が集光される領域に1Pa未満の真空排気空間を形成する手段; d)前記集光レーザビーム(1)と相互作用して、少なくとも1本の極端紫外線を放射するプラズマ(7)を発生させるに好適な濃密なターゲット(4)を、前記集光レーザビーム(1)が集光される空間に生成する装置(2); e)前記集光レーザビーム(1)と相互作用した後の前記ターゲット(4)を受けるレシーバー装置(3);および f)前記ターゲット(4)によって放射されたEUV線を集光するための少なくとも一つの第1の集光装置(10、110);とを有し、 本質的に線形な濃密なターゲット(4)によって定義される軸に垂直なEUV線平均集光軸(6)を有し;前記ターゲット(4)に前記レーザビーム(1)を集光させる前記集光手段(11,111)が、前記レーザビーム(1)が前記ターゲット(4)の側面に集光し、前記ターゲット(4)に対して該ターゲット(4)の前記レーザビーム(1)が位置する半分側の空間に位置するとともに、前記平均集光軸(6)に対して約60°から90°の範囲内の所定の角度(β)で傾斜するように、配置され;前記第1の集光装置が、前記ターゲット(4)のレーザビーム(1)が集光される半分側の空間に前記平均集光軸(6)周りに対称に配置され、前記平均集光軸(6)を中心とするとともに前記ターゲット(4)に位置する頂点を有する円錐状空間内に位置し、前記頂点の半角(α)が前記平均集光軸(6)に対する前記集光レーザビーム(1)の傾斜角(β)より小さい、ことを特徴とする極端紫外線発生装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  H05G 2/00

FI (2件)：

H01L21/30 531S ,  H05G1/00 K

Fターム (6件)：

4C092AA06 ,  4C092AA15 ,  4C092AB21 ,  4C092AC09 ,  4C092BD18 ,  5F046GC03

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 欧州特許出願公開第1 319 988 A2号明細書
  
• 欧州特許出願公開第1 255 163 A2号明細書
  
• 国際公開第 01/99143号パンフレット