特許

J-GLOBAL ID：200903096785623951

縦型熱処理装置

発明者： 西村 和晃
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 金坂 憲幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-287054
公開番号（公開出願番号）：特開2001-110730
出願日： 1999年10月07日
公開日（公表日）： 2001年04月20日
要約：

【要約】【課題】 簡単な構成で被処理体の面間方向でのガス供給量の均一化を図り、面間方向での処理の均一化を図る。【解決手段】 多数の被処理体wを高さ方向に所定間隔で支持して処理容器2内に収容し、該処理容器2内に処理ガスを導入して所定の温度で被処理体wを処理する縦型熱処理装置において、前記処理容器2内に、下方から上方へ立ち上がり先端が閉塞された直管からなり、その管壁に被処理体wに対して処理ガスを噴射するガス噴出孔16を所定の間隔で形成した第1のガス導入管8Aと、下方から上方へ立ち上がり且つ上方から下方へ折り返されて先端が閉塞されたU字管からなり、その下方へ折り返された部分の管壁に前記被処理体wに対して処理ガスを噴射するガス噴出孔17を所定の間隔で形成した第2のガス導入管8Bとを設ける。

請求項（抜粋）：

多数の被処理体を高さ方向に所定間隔で支持して処理容器内に収容し、該処理容器内に処理ガスを導入して所定の温度で被処理体を処理する縦型熱処理装置において、前記処理容器内に、下方から上方へ立ち上がり先端が閉塞された直管からなり、その管壁に被処理体に対して処理ガスを噴射するガス噴出孔を所定の間隔で形成した第1のガス導入管と、下方から上方へ立ち上がり且つ上方から下方へ折り返されて先端が閉塞されたU字管からなり、その下方へ折り返された部分の管壁に前記被処理体に対して処理ガスを噴射するガス噴出孔を所定の間隔で形成した第2のガス導入管とを設けたことを特徴とする縦型熱処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/205 ,  H01L 21/22 511 ,  C23C 16/455

FI (3件)：

H01L 21/205 ,  H01L 21/22 511 S ,  C23C 16/455

Fターム (15件)：

4K030EA06 ,  4K030JA05 ,  4K030KA04 ,  4K030KA05 ,  4K030KA41 ,  5F045AA06 ,  5F045AA20 ,  5F045AB02 ,  5F045AB03 ,  5F045AC01 ,  5F045BB03 ,  5F045DP19 ,  5F045EC08 ,  5F045EE12 ,  5F045EF03