特許
J-GLOBAL ID：200903096787585178

ヘテロ環化合物及びそれを用いた発光素子

発明者：
木村 桂三

木村 桂三 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (1件)： 中島 淳 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-140590
公開番号（公開出願番号）：特開2003-335754
出願日： 2002年05月15日
公開日（公表日）： 2003年11月28日
要約：
【要約】【課題】 各種電子デバイス、特に発光素子用材料として有用な化合物、及び発光特性、保存耐久性等に優れる発光素子を提供する。【解決手段】 下記一般式(I)で表されることを特徴とする化合物、及びそれを用いた発光素子である。式(I)中、R111、R112、R113、R114、R121、R122、R123、R124、R131、R132、R133及びR134は、それぞれハロゲン原子、アルキル基等を表す。R115、R116、R117、R118、R125、R126、R127、R128、R135、R136、R137及びR138は、それぞれ水素原子等を表す。n11は0又は1を表す。L11は、アリーレン基等を表す。R111〜R118、R121〜R128及びR131〜R138は互いに連結して環を形成してもよい。但し、n11が1を表し、更にR116、R126及びR136が1級アルキル基以外のアルキル基を表し、更にR117、R127及びR137がアルキル基を表すことはない。【化1】
請求項（抜粋）：
下記一般式(I)で表される化合物。【化1】(一般式(I)中、R111、R112、R113、R114、R121、R122、R123、R124、R131、R132、R133及びR134は、それぞれハロゲン原子、アルキル基又はアルコキシ基を表す。R115、R116、R117、R118、R125、R126、R127、R128、R135、R136、R137及びR138は、それぞれ水素原子又は置換基を表す。n11は0又は1を表す。L11は、アリーレン基、アリーレンとアルキレンの組み合わせからなる基又はアリールトリイル基を表す。R111〜R118、R121〜R128及びR131〜R138は互いに連結して環を形成してもよい。但し、n11が1を表し、更にR116、R126及びR136が1級アルキル基以外のアルキル基を表し、更にR117、R127及びR137がアルキル基を表すことはない。)
IPC (8件)：
C07D209/86 ,  C07D403/14 ,  C09K 11/06 640 ,  C09K 11/06 645 ,  C09K 11/06 650 ,  C09K 11/06 690 ,  H05B 33/14 ,  H05B 33/22
FI (8件)：
C07D209/86 ,  C07D403/14 ,  C09K 11/06 640 ,  C09K 11/06 645 ,  C09K 11/06 650 ,  C09K 11/06 690 ,  H05B 33/14 B ,  H05B 33/22 D
Fターム (19件)：
3K007AB02 ,  3K007AB03 ,  3K007AB04 ,  3K007AB11 ,  3K007AB14 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01 ,  4C063AA05 ,  4C063CC43 ,  4C063DD08 ,  4C063EE10 ,  4C204BB05 ,  4C204BB09 ,  4C204CB25 ,  4C204DB01 ,  4C204EB01 ,  4C204FB08 ,  4C204GB03 ,  4C204GB11
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)
引用文献：
出願人引用 (1件)
  • Photoetching of copper surface with photosensitive polymeric coatings
審査官引用 (1件)
  • Photoetching of copper surface with photosensitive polymeric coatings

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