特許

J-GLOBAL ID：200903096790471205

水処理装置

発明者： 芳賀 鉄郎 ,  久保田 昌良 ,  渡辺 昭二 ,  陰山 晃治
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-101892
公開番号（公開出願番号）：特開平8-294695
出願日： 1995年04月26日
公開日（公表日）： 1996年11月12日
要約：

【要約】【目的】溶存オゾンによる生物活性炭槽内の微生物の損傷を抑制して微生物を高活性状態に維持し、処理水質の向上,注入オゾン量の低減を図る。【構成】オゾン接触槽と生物活性炭槽とを備えた水処理装置において、生物活性炭槽に充填された活性炭の層高よりも低い層高に設定された触媒層を前記オゾン接触槽の下流側に設置し、オゾン処理水中の溶存オゾンを前記触媒層を通過させて分解してから生物活性炭槽に導入するようにした。【効果】生物活性炭槽内の微生物が処理水中の溶存オゾンの影響を受けることなく高活性状態に維持されるので、処理水質が向上し、注入オゾン量を低減できる。

請求項（抜粋）：

被処理水を導入してオゾンと接触させるオゾン接触槽と該オゾン接触槽で処理された処理水を導入して生物活性炭処理を行う生物活性炭槽とを備えた水処理装置において、前記生物活性炭槽に充填された活性炭の層高よりも低い層高に設定された触媒層を前記オゾン接触槽の下流側に設置し、前記オゾン接触槽で処理された水中に含まれる溶存オゾンを該触媒層を通過させて分解してから前記生物活性炭槽に導入するようにしたことを特徴とする水処理装置。

IPC (8件)：

C02F 1/78 ZAB ,  C02F 1/28 ,  C02F 3/06 ,  C02F 9/00 501 ,  C02F 9/00 502 ,  C02F 9/00 503 ,  C02F 9/00 504 ,  C02F 9/00

FI (8件)：

C02F 1/78 ZAB ,  C02F 1/28 D ,  C02F 3/06 ,  C02F 9/00 501 B ,  C02F 9/00 502 R ,  C02F 9/00 503 A ,  C02F 9/00 504 A ,  C02F 9/00 504 E