特許
J-GLOBAL ID:200903096805360588
ダイヤモンドの合成方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-212447
公開番号(公開出願番号):特開平9-040493
出願日: 1995年07月27日
公開日(公表日): 1997年02月10日
要約:
【要約】【課題】 広い面積に均一に、しかも比較的速い成長速度でダイヤモンド膜を成膜する。【解決手段】 プラズマCVD法により炭素を含む原料ガスからダイヤモンド膜を成膜する方法において、通常周波数域の高周波電力と直流電力を重畳して投入する。
請求項(抜粋):
プラズマCVD法により炭素を含む原料ガスからダイヤモンド膜を成膜する方法において、通常周波数域の高周波電力と直流電力を重畳して投入することを特徴とするダイヤモンドの合成方法。
IPC (3件):
C30B 29/04
, C23C 16/26
, C23C 16/50
FI (3件):
C30B 29/04 B
, C23C 16/26
, C23C 16/50
引用特許:
審査官引用 (1件)
-
薄膜作成装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-093737
出願人:日本真空技術株式会社
前のページに戻る