特許
J-GLOBAL ID:200903096826896674
リコペンの製造方法およびその中間体
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
久保山 隆 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-210597
公開番号(公開出願番号):特開2001-039943
出願日: 1999年07月26日
公開日(公表日): 2001年02月13日
要約:
【要約】【課題】 リコペンの製造法及びその中間体を提供すること。【解決手段】 一般式(4)で示されるスルホン誘導体及びリコペンの製造方法。
請求項(抜粋):
一般式(1)(式中、Arは置換基を有していてもよいアリール基、R1は低級アルキル基または水酸基の保護基を示す。)で示されるスルホンアルコール誘導体を酸化することを特徴とする一般式(2)(式中、ArおよびR1は前記と同じ意味を表わす。)で示されるスルホンアルデヒド誘導体の製造方法。
IPC (5件):
C07C317/24
, C07C 1/32
, C07C 11/21
, C07C315/04
, C07C317/18
FI (5件):
C07C317/24
, C07C 1/32
, C07C 11/21
, C07C315/04
, C07C317/18
Fターム (36件):
4H006AA01
, 4H006AA02
, 4H006AB10
, 4H006AB27
, 4H006AC12
, 4H006AC22
, 4H006AC45
, 4H006AC80
, 4H006BA02
, 4H006BA05
, 4H006BA09
, 4H006BA23
, 4H006BA26
, 4H006BA29
, 4H006BA32
, 4H006BA48
, 4H006BA69
, 4H006BA71
, 4H006BB11
, 4H006BB12
, 4H006BB15
, 4H006BB20
, 4H006BB21
, 4H006BB22
, 4H006BB25
, 4H006BB41
, 4H006BC10
, 4H006BC19
, 4H006BC34
, 4H006BE30
, 4H006BE33
, 4H006BP10
, 4H006BQ10
, 4H006FC78
, 4H006GP01
, 4H006TB05
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