特許
J-GLOBAL ID:200903096826896674

リコペンの製造方法およびその中間体

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 久保山 隆 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-210597
公開番号(公開出願番号):特開2001-039943
出願日: 1999年07月26日
公開日(公表日): 2001年02月13日
要約:
【要約】【課題】 リコペンの製造法及びその中間体を提供すること。【解決手段】 一般式(4)で示されるスルホン誘導体及びリコペンの製造方法。
請求項(抜粋):
一般式(1)(式中、Arは置換基を有していてもよいアリール基、R1は低級アルキル基または水酸基の保護基を示す。)で示されるスルホンアルコール誘導体を酸化することを特徴とする一般式(2)(式中、ArおよびR1は前記と同じ意味を表わす。)で示されるスルホンアルデヒド誘導体の製造方法。
IPC (5件):
C07C317/24 ,  C07C 1/32 ,  C07C 11/21 ,  C07C315/04 ,  C07C317/18
FI (5件):
C07C317/24 ,  C07C 1/32 ,  C07C 11/21 ,  C07C315/04 ,  C07C317/18
Fターム (36件):
4H006AA01 ,  4H006AA02 ,  4H006AB10 ,  4H006AB27 ,  4H006AC12 ,  4H006AC22 ,  4H006AC45 ,  4H006AC80 ,  4H006BA02 ,  4H006BA05 ,  4H006BA09 ,  4H006BA23 ,  4H006BA26 ,  4H006BA29 ,  4H006BA32 ,  4H006BA48 ,  4H006BA69 ,  4H006BA71 ,  4H006BB11 ,  4H006BB12 ,  4H006BB15 ,  4H006BB20 ,  4H006BB21 ,  4H006BB22 ,  4H006BB25 ,  4H006BB41 ,  4H006BC10 ,  4H006BC19 ,  4H006BC34 ,  4H006BE30 ,  4H006BE33 ,  4H006BP10 ,  4H006BQ10 ,  4H006FC78 ,  4H006GP01 ,  4H006TB05

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