特許

J-GLOBAL ID：200903096830415214

ポリシリケートミクロゲルおよびシリカをベースとする材料

発明者： ペルソン ミカエル ,  トカルズ マレク ,  シッカー レイン
出願人/特許権者： アクゾ ノーベル エヌ.ブイ.
代理人 (1件)： 伊東 哲也 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-502286
公開番号（公開出願番号）：特表2001-506224
出願日： 1998年06月08日
公開日（公表日）： 2001年05月15日
要約：

【要約】本発明はポリシリケートミクロゲル、それらの調製並びに製紙及び水精製における使用に関するものであり、そのポリシリケートミクロゲルは(i)塩ABの粒子を水性シリケートまたはポリシリケート溶液と接触させ、(ii)水性シリケートもしくはポリシリケート溶液の存在下でイオンAをイオンBと接触させ(それによりABが水相中で沈殿している)、または(iii)水性シリケートもしくはポリシリケート溶液の存在下でイオンAをイオンBと接触させる(それによりイオンAおよびイオンBが水中20°Cで測定して少なくとも4のpKs値を有する沈殿可能な塩ABのイオンに相当する)ことを含む方法により得られる。更に、本発明は水性シリケートまたはポリシリケート溶液、それらの調製およびポリシリケートミクロゲルの前駆体としての使用に関する。水性シリケートまたはポリシリケート溶液はカルシウムイオンまたはマグネシウムイオンであるイオンAを含み、SiO2:Aのモル比が2000未満:1かつ1超:1、または炭酸イオン、硫酸イオンまたはリン酸イオンであるイオンBを含み、SiO2:Bのモル比が2000未満:1かつ1超:1である。

請求項（抜粋）：

ポリシリケートミクロゲルの調製方法において、 (i)塩ABの粒子を水性シリケートまたはポリシリケート溶液と接触させ、または (ii)水性シリケートもしくはポリシリケート溶液の存在下でイオンAをイオンBと接触させ、 それによりABが水相中で沈殿することを特徴とするポリシリケートミクロゲルの調製方法。

IPC (4件)：

C01B 33/152 ,  B01D 21/01 102 ,  C02F 1/52 ,  D21H 17/70

FI (4件)：

C01B 33/152 A ,  B01D 21/01 102 ,  C02F 1/52 Z ,  D21H 17/70

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特公昭49-039757
  
• 特開平2-229297
  
• 特公昭49-039757
  
• 特開平2-229297