特許

J-GLOBAL ID：200903096837113191

ポジ型フォトレジスト組成物

発明者： 佐藤 健一郎 ,  青合 利明
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 萩野 平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-328680
公開番号（公開出願番号）：特開平10-171121
出願日： 1996年12月09日
公開日（公表日）： 1998年06月26日
要約：

【要約】【課題】 ポジ型フォトレジスト組成物において、脂肪族環状部位(脂環有機基)により改善されたドライエッチング耐性を大きく劣化させることなく、未露光部の密着性と膜べりを改善することにある。【解決手段】 2-オキソシクロヘキシル基を有する単量体を繰り返し単位として含む重合体と、活性光線または放射線の照射により分解して酸を発生する化合物を含むポジ型フォトレジスト組成物。

請求項（抜粋）：

下記一般式(I)で示される構造を繰り返し単位として含む重合体と、活性光線または放射線の照射により分解して酸を発生する化合物を含むことを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。一般式(I)【化1】ここで、R1 は水素原子又はアルキル基を表す。

IPC (4件)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/033 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/033 ,  H01L 21/30 502 R