薄膜体及び薄膜形成装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：宇高克己
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-026348
公開番号（公開出願番号）：特開平10-228641
出願日： 1997年02月10日
公開日（公表日）： 1998年08月25日
要約：

【要約】【課題】例えば、磁気テープなどの製造歩留りが高い技術を提供することである。【解決手段】支持体と、前記支持体の上に形成された薄膜とを有する薄膜体において、前記薄膜は、該薄膜の最下層部における幅が最上層部における幅より長い薄膜体。

請求項（抜粋）：

支持体と、前記支持体の上に形成された薄膜とを有する薄膜体において、前記薄膜は、該薄膜の最下層部における幅が最上層部における幅より長いことを特徴とする薄膜体。

IPC (3件)：

G11B 5/78 , C23C 14/14 , G11B 5/85

FI (3件)：

G11B 5/78 , C23C 14/14 F , G11B 5/85 Z

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