特許

J-GLOBAL ID：200903096843054849

トリオキサンの製造方法およびトリオキサンの製造装置

発明者： 北川 哲司 ,  吉川 正人 ,  小池 正廣
出願人/特許権者： 東レ株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-233478
公開番号（公開出願番号）：特開平10-077280
出願日： 1996年09月03日
公開日（公表日）： 1998年03月24日
要約：

【要約】【課題】ホルムアルデヒドからトリオキサンを製造するプロセスにおいて、反応器の腐食や、ホルムアルデヒド重合物の生成を抑制する。【解決手段】 ホルムアルデヒドからトリオキサンを製造するプロセスにおいて、固体酸触媒とホルムアルデヒド水溶液と接触させ、固体酸から溶出した酸性遊離物及び反応後のホルムアルデヒド水溶液の一部を反応系から抜き出す。

請求項（抜粋）：

ホルムアルデヒド水溶液と固体酸触媒を接触させてトリオキサンを製造し、未反応のホルムアルデヒド水溶液を繰り返し固体酸触媒と接触させてトリオキサンを製造する際に、固体酸触媒と接触させるホルムアルデヒド水溶液に含まれる酸性遊離物を10000ppm以下にすることを特徴とするトリオキサンの製造方法。

IPC (3件)：

C07D323/06 ,  B01J 31/10 ,  C07B 61/00 300

FI (3件)：

C07D323/06 ,  B01J 31/10 Z ,  C07B 61/00 300

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 特公昭64-011025
  
• 特開昭53-095953
  
• 特開昭58-164767
  
• 特開平3-056134
  

審査官引用 (4件)

• 特公昭64-011025
  
• 特開昭53-095953
  
• 特開昭58-164767
  
• 特開平3-056134