特許
J-GLOBAL ID:200903096868699780

拡散型フォトマスク及びそれを使用する光学部品の製造法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 杉本 修司
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-218997
公開番号(公開出願番号):特開平7-056324
出願日: 1993年08月10日
公開日(公表日): 1995年03月03日
要約:
【要約】【目的】 全面にわたって均一なパターン形状、段差を有する回折格子のような光学部品を、光学系に特別な部品が使用されている高価な露光装置を用いなくても、収率よく、かつ低コストに製造することができるようにする。【構成】 マスクパターン4の形成面とは反対側の面に、スリガラスのような、透過光を拡散させる光拡散部材5を具備した拡散型フォトマスク1を使用し、この拡散型フォトマスク1を通して感光性樹脂膜7の露光面全域に透過光を均一に照射させて光学部品のパターンを形成する。
請求項(抜粋):
透光性基板の片面に格子状のマスクパタ-ンを形成してなるフォトマスクであって、上記透光性基板のマスクパターン形成面とは反対側の面に、透過光を拡散させる光拡散部材を具備した拡散型フォトマスク。
IPC (3件):
G03F 1/08 ,  G02B 5/18 ,  G03F 7/20
引用特許:
審査官引用 (4件)
  • 特開昭64-049001
  • 特開昭58-188659
  • 特開昭64-049001
全件表示

前のページに戻る