特許
J-GLOBAL ID：200903096873538611
パターン描画装置、及び、パターン描画方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
作田 康夫
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2000002546
公開番号（公開出願番号）：WO2001-080292
出願日： 2000年04月19日
公開日（公表日）： 2001年10月25日
要約：
【要約】複雑なパターンを高速に描画できる描画装置を提供する。本発明は、描画距離が比較的短いならば、フィードバック制御を行わないで一定の電圧を印加しただけでも、探針から基板への照射電流がほぼ一定に保たれることに着目した。あらかじめフィードバックをかけて所望の照射電流が得られる電圧値を測定、記憶しておき、実際の描画はフィードバックをかけないで記憶しておいた電圧値のON/OFFだけで行う。
請求項（抜粋）：
探針で基板表面を走査させるとともにこれらの間に電流を供給して前記基板に所望のパターンを描画するパターン描画装置であって、 パターンデータを読み込む入力部と、 前記パターンデータに基づいて、前記探針と前記基板の間に供給する電流値、及び、前記電流の供給位置を決定する制御部と、 前記基板上のパターン描画領域外で探針を走査させながら電圧を印加して、前記電流値が得られたときの電圧値を記憶する電圧記憶部と、 前記基板上のパターン描画領域で探針を走査させながら前記電流供給位置で前記電圧値を印加して電流を供給する電圧印加部とを有することを特徴とするパターン描画装置。
IPC (1件)：
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