特許

J-GLOBAL ID：200903096874535780

露光方法及び装置、並びに前記露光方法で使用される偏差量測定装置

発明者： 諏訪 恭一 ,  水谷 英夫
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-097269
公開番号（公開出願番号）：特開平10-289855
出願日： 1997年04月15日
公開日（公表日）： 1998年10月27日
要約：

【要約】【課題】 感光材料による薄膜干渉の影響を受けにくくし、且つ簡素な構成で高精度にウエハ上のウエハマークの位置を検出する。【解決手段】 アライメント時に、コンデンサレンズ12とレチクルRとの間にビームスプリッタ29を設置し、ビームスプリッタ29を通過した露光光ILでレチクルマーク23A,24Aを照明し、更に投影光学系PLを介してウエハマーク27Aを照明し、これらのマークからの反射光をアライメントセンサ28で受光して、これらのマークの位置ずれ量を求める。予め、露光光ILのもとでのウエハマークの検出位置と、薄膜干渉の影響の少ない広帯域の照明光のもとでのウエハマークの検出位置との差分を偏差量として記憶装置14aに記憶しておき、アライメントセンサ28の検出結果をその偏差量で補正する。

請求項（抜粋）：

第1波長の露光光のもとでマスクに形成されたパターンを投影光学系を介して感光性基板に転写するに際して、第2波長の照明光を用いて前記投影光学系を介して前記感光性基板上に形成された位置合わせ用マークの位置を位置検出装置を用いて検出し、該検出結果に基づいて前記マスクと前記感光性基板との位置合わせを行う露光方法において、予め前記第2波長の照明光のもとで検出される前記感光性基板上の位置合わせ用マークの位置の所定の基準値からの偏差量を、前記位置検出装置とほぼ同一の結像条件及び/又はほぼ同一の照明条件を有する偏差量測定装置を用いて求めておき、前記第2波長の照明光を用いて前記投影光学系を介して検出される前記感光性基板上の位置合わせ用マークの位置を前記偏差量を用いて補正し、該補正結果に基づいて前記マスクと前記感光性基板との位置合わせを行うことを特徴とする露光方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00

FI (5件)：

H01L 21/30 525 K ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/30 525 D ,  H01L 21/30 525 W