特許
J-GLOBAL ID：200903096885431375
二段階膜分離乾燥方法及び装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
倉内 基弘 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-046030
公開番号（公開出願番号）：特開平6-007628
出願日： 1993年02月12日
公開日（公表日）： 1994年01月18日
要約：
【要約】【目的】 ガス中の不純物(湿分)を除去するための効率がよく且つ経済的に有利な膜分離乾燥方法及び装置を提供すること。【構成】 本発明の湿分含有ガスを乾燥させるための膜分離乾燥装置は、少なくとも2つ段階から成り、第一段階においては比較的小さい膜面積及び比較的低品質の外部源からのパージガスが用いられ、第二段階においては大きい膜面積及び製品ガスの少なくとも一部から成る高品質パージガスが用いられる。
請求項（抜粋）：
特定の膜分離装置を用いて湿ったガス流を乾燥させる方法であって、(a)湿分含有供給ガス流を、上記装置中の総膜表面積の約6%〜約80%の表面積を持つ少なくとも1つの第一段階膜に向けて加圧下で送り、(b)透過した湿分を上記の少なくとも1つの第一段階膜の少なくとも1つの低圧透過側から運び去るために、外部源からのガス流をこの少なくとも1つの低圧透過側に向けて送り、(c)得られた不完全乾燥された供給ガス流を、上記装置中の総膜表面積の約20%〜約94%の表面積を持つ少なくとも1つの第二段階膜に向けて加圧下で送り、(d)透過した湿分を上記の少なくとも1つの第二段階膜の少なくとも1つの低圧透過側から運び去るために、上記の少なくとも1つの第二段階膜から得られた乾燥製品ガスの少なくとも一部をこの少なくとも1つの低圧透過側に向けて送り、(e)乾燥製品ガスの残りの部分を回収することから成る前記方法。
IPC (2件)：
引用特許：
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