特許
J-GLOBAL ID：200903096885667697
赤外線吸収材料、赤外線吸収インキおよび不可視パターン
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
塩澤 寿夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-262796
公開番号（公開出願番号）：特開平9-104857
出願日： 1995年10月11日
公開日（公表日）： 1997年04月22日
要約：
【要約】【課題】 赤外領域にのみ吸収を持ち、可視光領域では吸収を行わない素材であって、薄い印刷層にも対応できる微細粒子でありながら近赤外領域、特に900〜1000nmの波長域、での吸収特性が良好であり、かつインキ中で凝集を起こしにくく、分散性が良好な赤外線吸収材料、この赤外線吸収材料を含むインキおよび不可視パターンの提供。【解決手段】 酸化イッテルビウム粒子からなることを特徴とする赤外線吸収材料。酸化イッテルビウム粒子とビヒクルとを含有することを特徴とする赤外線吸収材料。前記赤外線吸収材料を含有する不可視パターン及び不可視情報パターン。
請求項（抜粋）：
酸化イッテルビウム粒子からなることを特徴とする赤外線吸収材料。
IPC (3件)：
C09K 3/00 105
, B42D 15/10 501
, C09D 11/02 PSX
C09K 3/00 105
, B42D 15/10 501 B
, C09D 11/02 PSX
