特許

J-GLOBAL ID：200903096893945159

フラットパネルディスプレイにおいて均一なスペーサを画像状に配置するための方法および材料

発明者： スターラル,ジョン,エス. ,  ヤルバート,クレイヤー,イー. ,  トルバート,ウィリアム,エー. ,  ウルク,マーティン,ビー. ,  マーテンズ,アラン,アール. ,  イズベルグ,トーマス,エー.
出願人/特許権者： ミネソタ マイニング アンド マニュファクチャリング カンパニー
代理人 (1件)： 石田 敬 (外4名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-521536
公開番号（公開出願番号）：特表2000-513826
出願日： 1996年10月23日
公開日（公表日）： 2000年10月17日
要約：

【要約】レセプタ上に均一なスペーサを選択的に配置するためのプロセスおよび材料が記載されている。スペーサ部材は、転写可能スペーサ層を含む熱転写ドナーシートを選択的に照射することによりレセプタ上に配置される。転写可能スペーサ層は、粒子または繊維を含んで複合材を形成することが可能である。粒子は転写可能層の厚みより大きいかまたは小さいいずれかの間隔寸法を有してもよい。粒子の間隔寸法が転写可能層の厚みより大きな場合、粒子の間隔寸法は、間隔距離を制御する。プロセスおよび材料は、フラットパネルディスプレイ、特に液晶ディスプレイ装置の製造に有用である。

請求項（抜粋）：

フラットパネルディスプイに用いるためのレセプタ上にスペーサを選択的に配置するための方法であって、 (i)レセプタと、 (a)支持体、 (b)転写可能スペーサ層、および (c)任意の接着層、をこの順で含む熱転写ドナーシートとを提供し、前記レセプタ、前記支持体、前記スペーサ層または前記任意の接着層の少なくとも1つが輻射線吸収体を含むステップと、 (ii)前記レセプタを前記熱転写ドナーシートの前記転写可能スペーサ層と密に接触させて配置するステップと、 (iii)前記輻射線吸収体により吸収されて、前記熱転写ドナーシートの前記転写可能スペーサ層の照射された領域を前記レセプタに転写するのに十分な熱に変換される画像形成輻射線を用いて、前記熱転写ドナーシートまたは前記レセプタの少なくとも1つを画像状パターンに照射するステップと、 (iv)前記照射された領域内で前記転写可能スペーサ層を前記レセプタに転写するステップと、 (v)前記熱転写ドナーシートを除去して、前記照射された領域に対応するスペーサ部材を前記レセプタ上に形成するステップとを含む方法。

IPC (3件)：

G09F 9/30 323 ,  G02F 1/1339 ,  G09F 9/30

FI (3件)：

G09F 9/30 323 ,  G02F 1/1339 ,  G09F 9/30 C

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 液晶パネル用スペーサーの形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-201956   出願人：富士写真フイルム株式会社
• 液晶表示装置の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-216794   出願人：株式会社東芝
• 特開昭64-018127
  
• 特公昭48-043817