ガス循環処理装置

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴江武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-401180
公開番号（公開出願番号）：特開2002-203792
出願日： 2000年12月28日
公開日（公表日）： 2002年07月19日
要約：

【要約】【課題】成膜処理等で生じた副生成物等による汚染を低減することが可能なガス循環処理装置を提供する。【解決手段】処理ガスを導入して所定の処理を行う処理部11と、処理部からのガスを排気する第1の排気部15と、第1の排気部からのガスを外部に排気する第2の排気部16と、第1の排気部と第2の排気部との間に設けられ、第1の排気部の背圧を調整する背圧調整部17と、第1の排気部から排出されたガスの一部を処理部に供給する第1の配管部18a、21、24と、第1の配管部から分岐して背圧調整部につながる第2の配管部18bと、処理部のガス排出部から第1の排気部及び第1の配管部を介して処理部のガス導入部に至る循環経路の少なくとも一部を加熱する第1の加熱部30とを備える。

請求項（抜粋）：

処理ガスを導入して所定の処理を行う処理部と、前記処理部からのガスを排気する第1の排気部と、前記第1の排気部からのガスを外部に排気する第2の排気部と、前記第1の排気部と第2の排気部との間に設けられ、前記第1の排気部の背圧を調整する背圧調整部と、前記第1の排気部から排出されたガスの一部を前記処理部に供給する第1の配管部と、前記第1の配管部から分岐して前記背圧調整部につながる第2の配管部と、前記処理部のガス排出部から前記第1の排気部及び前記第1の配管部を介して前記処理部のガス導入部に至る循環経路の少なくとも一部を加熱する第1の加熱部と、を備えたことを特徴とするガス循環処理装置。

IPC (5件)：

H01L 21/205 , C23C 16/44 , C23C 16/455 , F17D 1/02 , H01L 21/3065

FI (5件)：

H01L 21/205 , C23C 16/44 J , C23C 16/455 , F17D 1/02 , H01L 21/302 N

Fターム (52件)：

3J071AA02 , 3J071BB02 , 3J071BB14 , 3J071CC01 , 3J071CC11 , 3J071DD22 , 3J071FF11 , 4K030AA06 , 4K030AA09 , 4K030BA44 , 4K030DA06 , 4K030EA12 , 4K030FA01 , 4K030FA10 , 4K030JA10 , 4K030KA22 , 4K030KA41 , 5F004AA15 , 5F004BA03 , 5F004BA04 , 5F004BB13 , 5F004BB14 , 5F004BB18 , 5F004BC03 , 5F004BC04 , 5F004BC08 , 5F004BD04 , 5F004CA01 , 5F004CA02 , 5F004DA00 , 5F004DA01 , 5F004DA02 , 5F004DA03 , 5F004DA17 , 5F004DA25 , 5F004DA26 , 5F004DB03 , 5F045AA08 , 5F045AC07 , 5F045BB14 , 5F045BB20 , 5F045EB06 , 5F045EC07 , 5F045EC09 , 5F045EG02 , 5F045EG03 , 5F045EG07 , 5F045EG09 , 5F045EH05 , 5F045EH14 , 5F045EH18 , 5F045GB06

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