特許

J-GLOBAL ID：200903096899375974

熱CVD装置および熱CVD方法

発明者： 西里 洋 ,  東海 暢男 ,  前田 祐二
出願人/特許権者： アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
代理人 (1件)： 園田 吉隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-332633
公開番号（公開出願番号）：特開2002-151488
出願日： 2000年10月31日
公開日（公表日）： 2002年05月24日
要約：

【要約】【課題】 ウェハを必要以上に加熱することなく、成膜速度を向上する。【解決手段】 チャンバ2と、該チャンバ2内に配置されウェハ3を載置するヒータ4と、該ヒータ4の上方に間隔を開けて配置され、原料ガスを前記ウェハ3上方の空間に分散するシャワーヘッド5とを具備し、シャワーヘッド5に原料ガスを供給する配管9,10,11,12に、原料ガスの温度を調節する温度調節装置14,15,16が設けられている熱CVD装置1を提供する。。

請求項（抜粋）：

チャンバと、該チャンバ内に配置されウェハを載置するヒータと、該ヒータの上方に間隔を開けて配置され、原料ガスを前記ウェハ上方の空間に分散するシャワーヘッドとを具備する熱CVD装置であって、前記シャワーヘッドに原料ガスを供給する配管に、該原料ガスの温度を調節する温度調節装置が設けられていることを特徴とする熱CVD装置。

IPC (4件)：

H01L 21/31 ,  C23C 16/448 ,  C23C 16/46 ,  C23C 16/52

FI (4件)：

H01L 21/31 B ,  C23C 16/448 ,  C23C 16/46 ,  C23C 16/52

Fターム (20件)：

4K030AA06 ,  4K030AA09 ,  4K030AA13 ,  4K030CA12 ,  4K030EA01 ,  4K030EA03 ,  4K030FA10 ,  4K030KA23 ,  4K030KA25 ,  5F045AA03 ,  5F045AC07 ,  5F045AC12 ,  5F045BB08 ,  5F045BB09 ,  5F045DP03 ,  5F045EE02 ,  5F045EE07 ,  5F045EF05 ,  5F045EK07 ,  5F045EM10