特許
J-GLOBAL ID:200903096906643033

高周波加熱装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 佐々木 宗治 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-331396
公開番号(公開出願番号):特開2001-148285
出願日: 1999年11月22日
公開日(公表日): 2001年05月29日
要約:
【要約】【課題】 本体の大型化を防ぎ、高周波のエネルギーロスを抑えて被加熱物を高効率でかつ均一に加熱するのできる清掃性のよい高周波加熱装置を提供する。【解決手段】 内部に加熱室1を有し、一方の側に高周波発振器3を備え、加熱室1の側板1aに第1の給電口21が設けられた本体と、第1の給電口21に連通し高周波発振器3からの高周波を加熱室1に伝搬する第1の導波管22と、加熱室1の第1の給電口21の上方に設置され加熱室1の底板1bとの間に第1の導波管21に連通する第2の導波管25を形成する載置台23と、載置台23に設けられ高周波を加熱室1に放射する第2の給電口27とを備えたものである。
請求項(抜粋):
内部に加熱室を有し、該加熱室の一方の側に高周波発振器を備え、前記加熱室の高周波発振器側の側板の下部に第1の給電口が設けられた本体と、前記第1の給電口に連通し、前記高周波発振器により発振された高周波を前記加熱室に伝搬する第1の導波管と、前記加熱室の第1の給電口の上方に設置され、前記加熱室の底板との間に第1の導波管に連通する第2の導波管を形成する載置台と、該載置台に設けられ透過により高周波を加熱室に放射する第2の給電口とを備えたことを特徴とする高周波加熱装置。
IPC (4件):
H05B 6/70 ,  F24C 7/02 511 ,  F24C 7/02 ,  H05B 6/72
FI (4件):
H05B 6/70 E ,  F24C 7/02 511 H ,  F24C 7/02 511 J ,  H05B 6/72 D
Fターム (14件):
3K090AA02 ,  3K090AB02 ,  3K090BA01 ,  3K090CA02 ,  3K090DA01 ,  3K090DA19 ,  3K090EA02 ,  3L086AA02 ,  3L086BA08 ,  3L086BB04 ,  3L086BB08 ,  3L086BB09 ,  3L086BF07 ,  3L086DA06
引用特許:
審査官引用 (3件)
  • 特開昭58-094792
  • 特開昭53-049251
  • 特開平2-290423

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