圧電体薄膜素子、圧電体薄膜素子を製造するための原盤、インクジェット式記録ヘッド及びこれらの製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴木喜三郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-171887
公開番号（公開出願番号）：特開2000-079686
出願日： 1998年06月18日
公開日（公表日）： 2000年03月21日
要約：

【要約】【課題】簡易な方法でインクジェット式記録ヘッドを安価に提供する。【解決手段】本発明は、インクジェット式記録ヘッドの圧電体薄膜素子をいわゆる転写法で形成するものである。圧電体薄膜素子5を製造する工程は、圧電体薄膜素子5の形状に対応した凹部82を備える原盤8を製造する工程と(図1(a))、原盤8の凹部82内に上部電極4を形成する工程と(図1(b))、上部電極4上に圧電体膜3を形成する工程と(図1(c))、少なくとも圧電体膜3を覆うように振動板2を形成し、加圧室基板となる基板1を接合する工程と(図1(d))、圧電体薄膜素子5を原盤8から剥離する工程(図1(e))と、基板1をエッチングして加圧室11を形成する工程(図1(f))と、ノズルプレート6を接合する工程(図1(g))と、を備える。

請求項（抜粋）：

上部電極と下部電極の間に挟まれる圧電体膜を備える圧電体薄膜素子の製造方法において、前記圧電体薄膜素子の形状に合わせた凹部が形成されている原盤で前記圧電体薄膜素子を転写形成する、圧電体薄膜素子の製造方法。

IPC (5件)：

B41J 2/045 , B41J 2/055 , B41J 2/16 , H01L 41/09 , H01L 41/22

FI (4件)：

B41J 3/04 103 A , B41J 3/04 103 H , H01L 41/08 C , H01L 41/22 Z

Fターム (16件)：

2C057AF69 , 2C057AF93 , 2C057AG01 , 2C057AG12 , 2C057AG44 , 2C057AG55 , 2C057AP02 , 2C057AP23 , 2C057AP25 , 2C057AP52 , 2C057AP53 , 2C057AP54 , 2C057AP55 , 2C057AP57 , 2C057BA04 , 2C057BA14

引用特許：

審査官引用 (7件)

インクジェットヘッドの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-225378 出願人：富士通株式会社
インクジェット式印字ヘッド及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-153825 出願人：セイコーエプソン株式会社
インクジェットヘッド及びインクジェットヘッド部品の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-119900 出願人：株式会社リコー

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