特許
J-GLOBAL ID:200903096955091224
重合開始剤系及びそれを用いた重合体の製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
鍬田 充生
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-134554
公開番号(公開出願番号):特開2000-119307
出願日: 1999年05月14日
公開日(公表日): 2000年04月25日
要約:
【要約】【課題】 分子量分布が狭く、分子量の制御された重合体を製造するのに有用な重合開始剤系を得る。【解決手段】 下記式(1)で表わされる金属錯体(A)とラジカル開始剤(B)とで構成された重合開始剤系の存在下、ビニル系単量体をリビング的にラジカル重合する。【化1】(式中、Aは炭素又はリン原子を示し、Mは遷移金属元素を示し、Xは酸素原子又は窒素原子を含んでいてもよい有機基を示す。kは2〜8の整数、mは1又は2を示す。)前記金属錯体(A)において、金属元素Mは周期表7〜11族遷移金属元素であり、ラジカル開始剤(B)は、アゾ化合物、有機過酸化物、無機過酸化物などである。金属錯体(A)とラジカル開始剤(B)との割合は、前者/後者=0.1/1〜10/1(モル比)程度である。
請求項(抜粋):
リビング重合のための重合開始剤系であって、下記式(1)【化1】(式中、Aは炭素又はリン原子を示し、Mは遷移金属元素を示し、Xは酸素原子又は窒素原子を含んでいてもよい有機基を示す。kは2〜8の整数、mは1又は2を示す。)で表わされる金属錯体(A)とラジカル開始剤(B)とで構成されている重合開始剤系。
IPC (6件):
C08F 4/00
, C08F 2/00
, C08F 4/06
, C08F 4/40
, C08F 12/04
, C08F 20/00
FI (6件):
C08F 4/00
, C08F 2/00 Z
, C08F 4/06
, C08F 4/40
, C08F 12/04
, C08F 20/00
Fターム (75件):
4J011AA07
, 4J011AC03
, 4J011HA03
, 4J011HB22
, 4J011JB22
, 4J011KB22
, 4J015DA13
, 4J015DA23
, 4J015DA24
, 4J015DA25
, 4J015DA34
, 4J015DA35
, 4J100AA01P
, 4J100AA02P
, 4J100AA03P
, 4J100AA06P
, 4J100AA15P
, 4J100AB02P
, 4J100AB03P
, 4J100AB04P
, 4J100AB07P
, 4J100AB08P
, 4J100AB09P
, 4J100AC03P
, 4J100AC04P
, 4J100AC11P
, 4J100AC23P
, 4J100AC24P
, 4J100AG02P
, 4J100AG03P
, 4J100AG04P
, 4J100AJ02P
, 4J100AJ08P
, 4J100AJ09P
, 4J100AK32P
, 4J100AL03P
, 4J100AL04P
, 4J100AL05P
, 4J100AL08P
, 4J100AL09P
, 4J100AL10P
, 4J100AL34P
, 4J100AL36P
, 4J100AL39P
, 4J100AL41P
, 4J100AL44P
, 4J100AL46P
, 4J100AM02P
, 4J100AM15P
, 4J100AM17P
, 4J100AM19P
, 4J100AM21P
, 4J100AM33P
, 4J100AM37P
, 4J100AM45P
, 4J100AM48P
, 4J100AS01P
, 4J100AS02P
, 4J100AS03P
, 4J100AS04P
, 4J100AS06P
, 4J100AS07P
, 4J100BA03P
, 4J100BA04P
, 4J100BA05P
, 4J100BA31P
, 4J100BA56P
, 4J100BC02P
, 4J100BC04P
, 4J100BC43P
, 4J100CA01
, 4J100CA03
, 4J100DA01
, 4J100DA04
, 4J100FA03
引用特許:
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