特許
J-GLOBAL ID：200903096955886391
電解金属箔の製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
穂高 哲夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-266809
公開番号（公開出願番号）：特開平6-093490
出願日： 1992年09月10日
公開日（公表日）： 1994年04月05日
要約：
【要約】【目的】 電解金属箔を得るにあたり、電解を中断することなく電解中、通電時に、特には幅方向の不均一な厚みを簡易に均一化することが可能な電解金属箔の製造方法を提供する。【構成】 定速回転する陰極ドラム1と、該ドラム面の下方略半分の両側に対向配置させた陽極2とから構成される電解金属箔製造装置を用いて、前記両極の間隙7にメッキ液を供給しながら通電し、陰極ドラム面に所定厚みの金属箔4を電着形成し、これを外部の巻取ロール5へ連続的に巻き取ることにより電解金属箔を製造するにあたり、通電時に、少なくとも片側の陽極面の一部を、金属箔厚み分布に応じた所定形状の絶縁体6で被覆して電解金属箔の厚みを均一化する電解金属箔の製造方法。
請求項（抜粋）：
定速回転する陰極ドラムと、該ドラム面の下方略半分の両側に対向配置させた陽極とから構成される電解金属箔製造装置を用いて、前記両極の間隙にメッキ液を供給しながら通電し、陰極ドラム面に所定厚みの金属箔を電着形成し、これを外部の巻取ロールへ連続的に巻き取ることにより電解金属箔を製造するにあたり、通電時に、少なくとも片側の陽極面の一部を、金属箔厚み分布に応じた所定形状の絶縁体で被覆して電解金属箔の厚みを均一化することを特徴とする電解金属箔の製造方法。
IPC (4件)：
C25D 1/04
, C25D 1/04 311
, C25D 7/06
, C25D 17/10
