特許

J-GLOBAL ID：200903096959628168

シクロアルキル[b]ベンゾフランの製造方法

発明者： 西山 久雄 ,  脇田 尚宜 ,  長瀬 博
出願人/特許権者： 東レ株式会社
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP1999001303
公開番号（公開出願番号）：WO1999-047509
出願日： 1999年03月17日
公開日（公表日）： 1999年09月23日
要約：

【要約】入手容易な光学活性である出発原料を用いて、遷移金属を用いる反応、Mitsunobu反応、あるいはその両者の反応を組み合わせて行った後、金属あるいは有機金属試薬を用いて環化反応を行うことを特徴とするシクロアルキル[b]ベンゾフランの光学活性体の製造方法。本製造法は、繁雑な光学分割操作、溶媒量と反応時間を多く必要とし再現性の得られにくい酵素反応が不要であり、実験的製法、工業的製法いずれにおいても適応できる。

請求項（抜粋）：

一般式(I)(式中R1は炭素数1〜12のアシル、炭素数7〜15のアロイルまたはCO2R2(ここでR2は炭素数1〜12の直鎖または分岐アルキル、炭素数3〜8のシクロアルキル、炭素数6〜11のアリールを示す)を示し、nは0〜4を示す)で表される化合物を出発原料として用いる一般式(II)(式中nは前記定義に同じ、Y、Zはそれぞれ独立して水素、ハロゲン、炭素数1〜5のアルキル、炭素数3〜8のシクロアルキル、炭素数4〜9のシクロアルキルアルキル、炭素数5〜10のシクロアルケニルアルキル、炭素数7〜12のアラルキル、炭素数2〜7のアルケニル、または炭素数6〜11のアリールを示す)で表されるシクロアルキル[b]ベンゾフランの製造方法。

IPC (5件)：

C07D307/93 ,  C07D307/79 ,  C07C 45/253 ,  C07C 43/247 ,  C07C 69/96