特許

J-GLOBAL ID：200903096961508277

トリフェニルホスフェ-ト含有セルロ-ストリアセテ-ト基体上に光学フィルムを製造する方法

発明者： エルウィン ウィルヘルムス エルドゥイセン
出願人/特許権者： アクゾ ノーベル ナムローゼ フェンノートシャップ
代理人 (1件)： 松井 光夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-359924
公開番号（公開出願番号）：特開2000-206336
出願日： 1999年12月17日
公開日（公表日）： 2000年07月28日
要約：

【要約】【目的】 どのような配向性フィルムも必要とせず、かつ費用が安く、優れた生産性を与え、しかも基体の滑らかさ及び液晶物質の配向が溶媒によって損なわれないところの、トリフェニルホスフェート含有セルローストリアセテート基体に基づく光学的機能性フィルムを製造する方法を提供する。【構成】 トリフェニルホスフェート含有セルローストリアセテート基体上に光学的機能性フィルムを製造する方法において、(a)溶液パラメータd(T)>6、好ましくはd(T)>8.6及び0≦d(Hb)<2.2、好ましくは0≦d(Hb)≦2.0を有するキャスティング溶媒中の液晶物質の溶液を施与することにより、セルローストリアセテート上に液晶物質をコーティングすること;(b)該溶媒を除去すること;及び(c)該液晶物質を配向させることの段階を含むところの方法。

請求項（抜粋）：

トリフェニルホスフェート含有セルローストリアセテート基体上に光学的機能性フィルムを製造する方法において、(a)溶液パラメータd(T)>6、好ましくはd(T)>8.6及び0≦d(Hb)<2.2、好ましくは0≦d(Hb)≦2.0を有するキャスティング溶媒中の液晶物質の溶液を施与することにより、セルローストリアセテート上に液晶物質をコーティングすること;(b)該溶媒を除去すること;及び(c)該液晶物質を配向させることの段階を含むところの方法。

IPC (5件)：

G02B 5/30 ,  B05D 7/02 ,  B32B 9/00 ,  G02B 1/10 ,  G02F 1/13363

FI (5件)：

G02B 5/30 ,  B05D 7/02 ,  B32B 9/00 Z ,  G02F 1/13363 ,  G02B 1/10 Z